光氧催化氧化利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射廢氣，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈在高能紫外線光束照射下與臭氧進(jìn)行反應(yīng)生成低分子化合物，如CO2、H2O等。而且投資費用低、適用范圍廣、凈化效率高、操作簡單、除臭效果好、設(shè)備運行穩(wěn)定、占地小、運行費用低、隨用隨開、不會造成二次污染。

臭氧對于有機物是具有強的氧化作用，而且對工業(yè)廢氣及其它刺激性異味也有清除效果。工業(yè)排出的廢氣利用排風(fēng)設(shè)備進(jìn)行輸入到本凈化設(shè)備之后，凈化設(shè)備運用高能UV紫外線光束及臭氧對工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使工業(yè)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物，水和二氧化碳然后通過排風(fēng)管道排出室外。利用高能-C光束裂解工業(yè)廢氣中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)達(dá)到凈化及殺滅細(xì)菌的目的。從凈化空氣效率考慮，我們選擇了-C波段紫外線和臭氧，結(jié)合電暈電流較高化裝置，采用脈沖電暈放吸附技術(shù)相結(jié)合的原理對有害氣體進(jìn)行消除，其中-C波段紫外線主要用來去除硫化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、丙酮、尿烷、樹脂等氣體的分解和裂變，使有機物變?yōu)闊o機化合物。

光催化性能要求

a) 微波光氧催化設(shè)備柜體材料選用SUS304，防止現(xiàn)場的腐蝕。

b) 設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)設(shè)計合理，使用運行和維護(hù)都非常方便，清潔時可用稀釋劑直接噴到廢氣腔內(nèi)，再用清水清潔，不用拆卸柜體。

c) 內(nèi)部元件與廢氣直接接觸部分為石英材質(zhì)，耐高溫和腐蝕。

d) 電氣與廢氣腔體隔離，廢氣腔內(nèi)催化管元件在特殊情況下爆裂也不會產(chǎn)生明火，排除現(xiàn)場爆i炸隱患。

e) 遠(yuǎn)程/就地均可操作，遠(yuǎn)程操控箱可通過控制電纜連接放在任何場所，uv廢氣處理設(shè)備生產(chǎn)廠家，防爆場所可定制防爆操作柱來進(jìn)行遠(yuǎn)程控制。

f) 必須具有至少三重功效：紫外線殺菌、臭氧氧化、光觸煤凈化三重功率協(xié)作。

高能臭氧用于分解空氣中的氧分子，產(chǎn)生游離氧，uv廢氣處理設(shè)備，即活性氧。由于自由氧攜帶正負(fù)電子的不平衡，光氧催化廢氣處理設(shè)備，需要與氧分子結(jié)合產(chǎn)生臭氧，使自由污染物分子與臭氧氧化結(jié)合形成小的無害或低有害化合物，如CO2、H2O等。UV+O2＝O+O*（活性氧）O+O2 O2 O3（O3）。